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2025年3月27日，上海——在全球半導體行業(yè)矚目的"國際集成電路展覽會暨研討會(IIC Shanghai 2025)"頒獎盛典上，普冉股份榮膺"年度技術突破IC設計公司"！這是繼2024年榮獲"年度創(chuàng)新IC設計公司"后，再次登上領獎臺。
普冉股份憑借多項核心技術突破與行業(yè)領先的創(chuàng)新能力，從全球頂尖IC設計企業(yè)中脫穎而出。這一殊榮不僅是對普冉技術實力的高度認可，更彰顯了公司在半導體領域的競爭力。
這一殊榮，是對普冉在集成電路領域持續(xù)深耕與技術突圍的有力印證。 通過工藝制程的突破性革新，公司已在產(chǎn)品可靠性、能耗控制與成本效益等維度打造了差異化競爭優(yōu)勢，樹立了良好的品牌知名度。
普冉始終將技術突破視為企業(yè)發(fā)展的核心引擎。未來將持續(xù)加碼技術研發(fā)資源投入，攻堅克難，致力于以更高性能、更具市場競爭力的產(chǎn)品矩陣，賦能全球客戶智能化升級需求。
在IIC Shanghai 2025的獲獎，既是對過往技術沉淀的褒獎，亦是未來探索的號角。普冉將繼續(xù)深化自主技術壁壘，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)化進程，為中國半導體行業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展注入澎湃動能。
